微软雅黑, ‘Microsoft YaHei’; font-size: 16px; font-style: normal; font-variant-ligatures: normal; font-variant-caps: normal; font-weight: 400; letter-spacing: normal; orphans: 2; text-align: justify; text-indent: 2em; text-transform: none; widows: 2; word-spacing: 0px; -webkit-text-stroke-width: 0px; white-space: normal; background-color: #ffffff; text-decoration-thickness: initial; text-decoration-style: initial; text-decoration-color: initial; width: 100%; line-height: 30px;”>众所周知，全球最牛的光刻机厂商，是荷兰的ASML，它垄断了全球90%的光刻机市场，EUV光刻机市场更是高达100%，只有它能够制造。

但ASML表面上看是荷兰的，实际上是被美国控制的，ASML是美国意志的产物，没有美国在背后推动，支持，ASML不可能有如此地位。

想当初，EUV光刻机的技术，其实是美国先研发出来的，后来交给了ASML来推进落地，也就有了ASML的EUV光刻机。

所以，不用怀疑，ASML就是美欧芯片联盟之间的纽带，甚至不只是美欧，ASML还是日本、韩国、中国台湾半导体产业的纽带，EUV光刻机则是其中最为重要的一环。

靠着EUV光刻机，美国掌握了ASML，就相当于掌控了全球的芯片产业链，谁不听美国的话，美国就要ASML断了EUV光刻机的供给，对方立马就老实了。

而为了扶持ASML，早期像美国的intel、台积电、三星都投入了真金白银，成为ASML的股东。

不过，从近日的情况来看，美欧芯片联盟，或者说美国掌握下的全球芯片一体化的纽带，似乎出现了裂缝，那就是美国著名的存储芯片企业美光，似乎要抛弃EUV光刻机了。

媒体报道称，美光近日在一场演讲当中介绍了如何将纳米压印技术用于DRAM生产的细节，预示着美光将会率先采用佳能的NIL设备用于DRAM芯片的生产，抛弃EUV光刻机。

美光为何会使用NIL纳米压印设备？原因在于使用NIL设备，成本将大幅度降低。

按照佳能之前的说法，NIL设备的功耗只有EUV的10%左右，而使用NIL设备进组建全套芯片生产线，比使用EUV设备组建的全套生产线，成本低40%左右。

不过缺点就是生产效率不高，不如EUV光刻机，同样的产能，需要多台NIL设备，才能达到一台EUV设备的效果。

之前SK海力士已经使用了NIL设备来制造存储芯片，如果美光也采用NIL设备，慢慢抛弃掉EUV光刻机，趋势就非常明显了，这就意味着全球半导体产业链的纽带EUV光刻机，面临断裂的危机了，EUV不再是5nm以下芯片制造的唯一，真正有了替代品。

而美国作为产业链背后的掌控者，也将面临着很大的危机，一旦EUV光刻机垄断地位不再，全球的格局都会被改写，美国的芯片霸权，只怕也难以为继了。

       原文标题 : 美欧日韩芯片联盟，出现裂缝，EUV光刻机时代，要过去了？

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